解释为什么干氧工艺适用于大规模集成电路的氧化工艺

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/04/29 10:42:22

解释为什么干氧工艺适用于大规模集成电路的氧化工艺
解释为什么干氧工艺适用于大规模集成电路的氧化工艺

解释为什么干氧工艺适用于大规模集成电路的氧化工艺
大规模集成电路的工艺对氧化层的质量要求比较高.干氧工艺产生的氧化层生长速率低,但是很致密.可以生长出高质量的氧化层.