四氟化碳 与硅和二氧化硅的反应 最好是刻蚀的
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/11/01 07:22:32
四氟化碳 与硅和二氧化硅的反应 最好是刻蚀的
四氟化碳 与硅和二氧化硅的反应
最好是刻蚀的
四氟化碳 与硅和二氧化硅的反应 最好是刻蚀的
CF4-----在电浆下----->2F+CF2
SiO2+4F--->SiF4+2O
SiO2+2CF2--->SiF4+2CO
CF4经过电浆轰击产生F原子跟CF2原子团
F原子跟CF2原子团分别跟SiO2反应生成挥发性的SiF4
F原子跟CF2原子团与Si也能发生反应,但这不是我们想看到的,通过适当调整CF4电浆对晶片表面的离子轰击及所生成的高分子(polymer)层,我们能够做到保护Si而只蚀刻SiO2的高选择比的效果
如果CF4中加如适当的O2的话
CF4+O---->COF2+2F,可见O原子将会消耗很多碳原子,使得F原子的相对比例提高,实际上,在许多半导体工艺中,就是通过这种方式来控制蚀刻速率的
然而实验证明,增加O的含量,CF4对Si的蚀刻速率增加的比对SiO2快,这时我们加入适当的H,通过H+F--->HF来减少F的比例
实际上,半导体SI及SIO2蚀刻工艺中,最重要的就是控制C/F的比例
四氟化碳 与硅和二氧化硅的反应 最好是刻蚀的
氢氟酸与二氧化硅反应生成四氟化硅气体和水的化学方程式
氢氟酸与二氧化硅发生反应,生成四氟化硅气体和水,该反应的化学方程式为
四氟化碳 与硅和二氧化硅的反应有毒吗,对人体有医学吗,等离子刻蚀机的辐射大吗对人体影响学吗
氟化铵和二氧化硅反应的方程式
二氧化硅和氢氟酸反应方程式生成的四氟化硅有没气标号
Si与HF反应生成的氟化硅为什么不用写气体符号二氧化硅和HF反应生成的氟化硅就写气体符号为什么Si与HF反应生成的氟化硅不用写气体符号
氟化氨和二氧化硅的反应方程如题、
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镁与四氟化碳反应吗如题
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